HỆ THỐNG THÔNG TIN QUỐC GIA VỀ KHOA HỌC, CÔNG NGHỆ VÀ ĐỔI MỚI SÁNG TẠO
Các nhiệm vụ khác
- Hoàn thiện quy trình kỹ thuật nuôi dưỡng để phát triển chăn nuôi gà Sasso
- Nghiên cứu hiện tượng mực nước biển dâng dị thường không phải do bão xảy ra tại cac vùng cửa sông ven biển Việt Nam
- Nghiên cứu cơ sở khoa học xác định mức độ ô nhiễm môi trường của các nguồn phóng xạ tự nhiên để xây dựng quy trình công nghệ đánh giá chi tiết các vùng ô nhiễm phóng xạ tự nhiên - Quy trình công nghệ đánh giá chi tiết các vùng ô nhiễm phóng xạ tự nhiên
- Nghiên cứu điều chế axit ferulic từ sản phẩm dầu kiềm thải của nhà máy trích ly cám gạo ở Cần Thơ bằng phương pháp thủy phân kết hợp sóng siêu âm nhằm phục vụ cho lĩnh vực y dược
- Nghiên cứu các chỉ tiêu kỹ thuật của nền san hô và tương tác giữa kết cấu công trình và nền san hô
- Hoàn thiện công nghệ và thiết bị sản xuất phân bón lá dạng hữu cơ Pomior và ứng dụng nhằm nâng cao năng xuất chất lượng một số cây trồng - Báo cáo chuyên đề
- Các vật liệu tương tự graphene và các cấu trúc ghép giữa chúng
- nghiên cứu xây dựng chính sách phát triển công nghiệp vật liệu đến năm 2030 tầm nhìn đến năm 2045
- Bệnh quan liêu trong công tác cán bộ trong điều kiện Đảng Cộng sản Việt Nam cầm quyền - Thực trạng và giải pháp để đề phòng và khắc phục
- Tổ chức các ngày hội khởi nghiệp đổi mới sáng tạo quốc gia năm 2017
liên kết website
Lượt truy cập
Lượt truy cập :
34,974,690
- Kết quả thực hiện nhiệm vụ
103.03-2018.08
2021-66-412/KQNC
Nghiên cứu mặt nạ pha cho mở rộng độ sâu hội tụ ở hệ thống mã hóa mặt sóng
Học viện Kỹ thuật Quân sự
Bộ Quốc phòng
Quỹ Phát triển khoa học và công nghệ Quốc gia
Quốc gia
TS. Phạm Minh Nghĩa(1), TS. Mai Văn Huy, TS. Tạ Văn Dương(3), TS. Bùi Đình Bảo
299 - Khoa học kỹ thuật và công nghệ khác
01/12/2018
01/12/2020
2020
Hà Nội
149 tr.
Nghiên cứu những thuận lợi và nhược điểm của các phương pháp đề xuất trước đây cho mở rộng độ sâu hội tụ, bao gồm sự phát triển của các kiểu mặt nạ pha, các phương pháp tối ưu hóa cho các mặt nạ pha và các phương pháp nâng cao chất lượng ảnh. Đề xuất các mặt nạ pha mới mà có thể cải tiến đặc tính tạo ảnh bất biến lệch tiêu và nâng cao chất lượng tạo ảnh của hệ thống quang học. Mô hình đặc biệt trên cơ sở sử dụng hai ảnh nhận được từ hệ thống quang học tạo ảnh. Phương pháp trừ, phương pháp nhân và sự kết hợp giữa phương pháp số hóa và phương pháp trừ đã được trình bày. Kết hợp mới giữa mặt nạ pha và mặt nạ biên độ cho cải tiến chất lượng tạo ảnh của hệ thống quang học với mặt nạ. Bằng sự thêm mặt nạ biên độ hợp lý vào hệ thống quang học với mặt nạ pha, có thể nhận được ảnh chất lượng cao hơn.
24 Lý thường Kiệt, Hà Nội
18672
In ấn
Gửi Email
Facebook
Twitter
Google+