Các nhiệm vụ khác
- Xây dựng hệ thống công thức về dự đoán độ bền của các kết cấu cylinder ngoài khơi khi bị đâm va
- Xây dựng mô hình trình diễn và hoàn thiện quy trình thâm canh lạc đạt năng suất cao tại tỉnh Hải Dương
- Cơ sở lý luận và thực tiễn đổi mới một số chính sách xã hội ở Việt Nam giai đoạn 2021-2030
- Nghiên cứu công nghệ thiết kế chế tạo thiết bị sản xuất tự động bánh tráng bò bía
- Nghiên cứu phân loại nhà ở an toàn chịu gió bão
- Xây dựng địa phương chí tỉnh Bến Tre theo quy chuẩn địa chí Quốc gia Việt Nam
- Thiết kế xây dựng hệ thống bài tập trắc nghiệm đánh giá chất lượng học tập hai môn toán và tiếng Việt của học sinh tiểu học trên địa bàn Sơn La
- Nghiên cứu xây dựng các chương trình, tài liệu đào tạo và tổ chức các khoá đào tạo hỗ trợ doanh nghiệp đổi mới hoạt động đo lường thông qua thực hiện các chương trình đảm bảo đo lường để nâng cao năng lực cạnh tranh và hội nhập quốc tế
- Nghiên cứu thiết kế hệ thống vector biểu hiện gen nhằm nâng cao hiệu suất sinh tổng hợp enzyme ở nấm sợi Aspergillus oryzae
- Nghiên cứu định hướng và xây dựng các mô hình kinh tế hợp tác mới ở nông thôn ngoại thành Thành phố Hồ Chí Minh
liên kết website
Lượt truy cập
- Kết quả thực hiện nhiệm vụ
103.03-2018.08
2021-66-412/KQNC
Nghiên cứu mặt nạ pha cho mở rộng độ sâu hội tụ ở hệ thống mã hóa mặt sóng
Học viện Kỹ thuật Quân sự
Bộ Quốc phòng
Quốc gia
TS. Lê Văn Nhu(2)
TS. Phạm Minh Nghĩa, TS. Mai Văn Huy, TS. Tạ Văn Dương(3), TS. Bùi Đình Bảo
Khoa học kỹ thuật và công nghệ khác
01/12/2018
01/12/2020
2020
Hà Nội
149 tr.
Nghiên cứu những thuận lợi và nhược điểm của các phương pháp đề xuất trước đây cho mở rộng độ sâu hội tụ, bao gồm sự phát triển của các kiểu mặt nạ pha, các phương pháp tối ưu hóa cho các mặt nạ pha và các phương pháp nâng cao chất lượng ảnh. Đề xuất các mặt nạ pha mới mà có thể cải tiến đặc tính tạo ảnh bất biến lệch tiêu và nâng cao chất lượng tạo ảnh của hệ thống quang học. Mô hình đặc biệt trên cơ sở sử dụng hai ảnh nhận được từ hệ thống quang học tạo ảnh. Phương pháp trừ, phương pháp nhân và sự kết hợp giữa phương pháp số hóa và phương pháp trừ đã được trình bày. Kết hợp mới giữa mặt nạ pha và mặt nạ biên độ cho cải tiến chất lượng tạo ảnh của hệ thống quang học với mặt nạ. Bằng sự thêm mặt nạ biên độ hợp lý vào hệ thống quang học với mặt nạ pha, có thể nhận được ảnh chất lượng cao hơn.
24 Lý thường Kiệt, Hà Nội
18672
