
- Quyền con người trong điều kiện kinh tế thị trường định hướng xã hội chủ nghĩa và hội nhập quốc tế - lý luận và thực tiễn
- Nghiên cứu một số giải pháp khoa học công nghệ để phát triển cây Bông Vải có tưới tại Bình Thuận
- Một số thách thức chính trị đối nội và đối ngoại của Mỹ tác động đến bầu cử tổng thống Hoa Kỳ năm 2016
- Nghiên cứu công nghệ chế biến một số sản phẩm thuỷ sản giá trị gia tăng xuất khẩu
- Ứng dụng tiến bộ kỹ thuật thâm canh tăng năng suất bưởi Đại Minh và kết hợp nuôi ong lấy mật theo hướng sản xuất bền vững
- Nghiên cứu sử dụng các đồng vị radi tự nhiên để xác định hệ số khuếch tán và thời gian lưu của nước biển ven bờ - Pha 1: Xây dựng phương pháp xác định hệ số khuếch tán và thời gian lưu của nước biển ven bờ
- Hoàn thiện công nghệ chế tạo robot phục vụ đào tạo
- Xây dựng mô hình ứng dụng tiến bộ kỹ thuật bảo tồn và phát triển cây măng Gầy Trung Sơn tại huyện Yên Lập tỉnh Phú Thọ
- Nghiên cứu giải pháp phòng trừ tổng hợp sâu bệnh hại chính cây Sơn tra (Docynia indica Willich) tại miền núi phía Bắc
- Nghiên cứu Công ước của Liên Hợp Quốc về sử dụng chứng từ điện tử trong hợp đồng quốc tế và đề xuất phương án gia nhập Công ước của Việt Nam



- Kết quả thực hiện nhiệm vụ
103.03-2018.08
2021-66-412/KQNC
Nghiên cứu mặt nạ pha cho mở rộng độ sâu hội tụ ở hệ thống mã hóa mặt sóng
Học viện Kỹ thuật Quân sự
Bộ Quốc phòng
Quốc gia
TS. Lê Văn Nhu(2)
TS. Phạm Minh Nghĩa(1), TS. Mai Văn Huy, TS. Tạ Văn Dương(3), TS. Bùi Đình Bảo
Khoa học kỹ thuật và công nghệ khác
01/12/2018
01/12/2020
2020
Hà Nội
149 tr.
Nghiên cứu những thuận lợi và nhược điểm của các phương pháp đề xuất trước đây cho mở rộng độ sâu hội tụ, bao gồm sự phát triển của các kiểu mặt nạ pha, các phương pháp tối ưu hóa cho các mặt nạ pha và các phương pháp nâng cao chất lượng ảnh. Đề xuất các mặt nạ pha mới mà có thể cải tiến đặc tính tạo ảnh bất biến lệch tiêu và nâng cao chất lượng tạo ảnh của hệ thống quang học. Mô hình đặc biệt trên cơ sở sử dụng hai ảnh nhận được từ hệ thống quang học tạo ảnh. Phương pháp trừ, phương pháp nhân và sự kết hợp giữa phương pháp số hóa và phương pháp trừ đã được trình bày. Kết hợp mới giữa mặt nạ pha và mặt nạ biên độ cho cải tiến chất lượng tạo ảnh của hệ thống quang học với mặt nạ. Bằng sự thêm mặt nạ biên độ hợp lý vào hệ thống quang học với mặt nạ pha, có thể nhận được ảnh chất lượng cao hơn.
24 Lý thường Kiệt, Hà Nội
18672