BỘ KHOA HỌC VÀ CÔNG NGHỆ
HỆ THỐNG THÔNG TIN QUỐC GIA VỀ KHOA HỌC, CÔNG NGHỆ VÀ ĐỔI MỚI SÁNG TẠO

Lọc theo danh mục
  • Năm xuất bản
    Xem thêm
  • Lĩnh vực
liên kết website
Lượt truy cập
 Lượt truy cập :  30,110,837
  • Công bố khoa học và công nghệ Việt Nam

Cán kim loại; kéo kim loại; sản xuất sản phẩm kim loại; sản xuất ống kim loại, v.v..

Hà Minh Hùng, Vũ Dương, Nguyễn Văn Đức, ThS. Bùi Văn Khoả, VŨ DƯƠNG(1)

Nghiên cứu xác định chiều dày lớp phủ plasma vật liệu gốm A12O3 - TiO, bằng phương pháp kim tương học

Study on the thickness of plasma coating from ceramic system Alo3 - tio2 using metallography

Cơ khí Việt Nam

2022

1+2

7-17

0866-7056

Phun plasma, Vật liệu gom AfO} - TiO,, Quy hoạch thực nghiệm.

Plasma spraying, Ceramic material Al2O - TiO,: Design experiment.

Bài báo giới thiệu kết quà thực nghiêm xác định chiểu dày lớp phù plasma từ bột phun hệ gốm A Iff - 40% TiO2 trên bề mặt lớp thép nền các bon C.45 trong quy mô phòng thí nghiệm bằng phương pháp kim tương học, sử dụng kỉnh hiên vi quang học Axiovert 25 MAT có tích hợp phân mềm phán tích ảnh kỹ thuật so. Ket quả cho thấy chiều dày trung bĩnh của lớp phù plasma phụ thuộc vào các thông so lựa chọn chế độ phun như cường độ dòng plasma (If khoảng cách phun (Lsô lượt phun (nf tốc độ di chuyên đầu súng phun theo quỹ đạo cho trước (vf trong đó anh hương của np là lớn nhất, tiếp theo là L; I; và V.

This paper present the experimental research to determine the thickness of plasma coating from ceramic system Alff - 40°/o TiO2 on the substrate of the carbon steel ss 400 in laboratory conditions, using the metallography method with the optic microscope Axiovert 25 MAT integrating the digital picture processing software. The results demonstrated that the average thickness of the plasma coating depends on the process parameters such as the current of plasma (IJ, the distance of spraying (L J, the number of coating (nthe transverse speed of plasma gun alongside the trajectoryfvf, therein the most noticeable is np, following Lp; Ip; Gp and vp.
 

TTKHCNQG, CVv 520

Xem toàn văn