HỆ THỐNG THÔNG TIN KHOA HỌC VÀ CÔNG NGHỆ
Lọc theo danh mục
liên kết website
Lượt truy cập
Lượt truy cập :
22,919,685
- Công bố khoa học và công nghệ Việt Nam
76
Kỹ thuật hoá dược
BB
Phạm Thị Mai Phương, Nguyễn Đăng Tuyên, Trần Bá Đức, Nguyễn Thi Thu Hiền, Phạm Văn Huấn, Phạm Anh Tuân, Phạm Hùng Vượng, Nguyễn Duy Cường(1)
Nghiên cứu sự ảnh hưởng của tỷ lệ Ti:Zr lên các đặc tính cấu trúc, đặc tính ưa nước và tính tương thích sinh học của màng mỏng TiZrN
Effect of Ti:Zr ratio on the structureral, hyd-rophilic and biocompatible properties of TiZrN thin films
Tạp chí Khoa học và Công nghệ - Đại học Thái Nguyên
2023
14
247 - 254
1859-2171
Trong bài báo này, chúng tôi nghiên cứu sự ảnh hưởng của tỷ lệ Ti/Zr lên đặc tính cấu trúc, đặc tính ưa nước và tính tương thích tế bào của màng mỏng TiZrN được chế tạo bằng phương pháp phún xạ. Tất cả các màng TiZrN đều được lắng đọng ở nhiệt độ phòng dưới áp suất 5 mtorr sử dụng nguồn phún xạ một chiều. Sự thay đổi tỷ lệ Ti/Zr bằng cách thay đổi công suất phún xạ nguồn Zr đã làm thay đổi hình thái học bề mặt, độ kết tinh và đặc tính ưa nước của các màng TiZrN. Khi tăng công suất Zr, độ kết tinh và độ ráp bề mặt đã giảm rõ rệt. Góc dính ướt đã tăng từ 65° lên 81°, độ ráp bề mặt giảm từ 5,53 nm xuống 1,42 nm. Tất cả các màng đều cho thấy khả năng tương thích với tế bào BHK khá tốt. Sau 72 giờ nuôi cấy, các tế bào BHK đã phát triển và bám lên hầu hết các vị trí trên bề mặt của các màng TiZrN. Điều này cho thấy rằng, các màng TiZrN rất có tiềm năng cho ứng dụng trong cấy ghép y sinh.
In this article, we investigated the influence of the Ti/Zr ratio on the structural properties, water wettability, and cell compatibility of TiZrN thin films fabricated by sputtering method. All TiZrN thin films were deposited at room temperature under working pressure of 5 mtorr by dc-magnetron sputtering. By varying the Ti/Zr ratio through adjusting the sputtering power of the Zr source, we observed changes in the surface morphology, crystallinity, and water wettability of the TiZrN films. Increasing the Zr sputtering power resulted in a significant decrease in crystallinity and surface roughness. The contact angle increased f-rom 65° to 81°, and the surface roughness decreased f-rom 5.53 nm to 1.42 nm. All the films exhibited good compatibility with BHK cells. After 72 hours of culturing, the BHK cells proliferated and adhered to most positions on the surface of the TiZrN films. This indicates that TiZrN films have great potential for applications in biomedical implants.
TTKHCNQG, CTv 178
Xem toàn văn