BỘ KHOA HỌC VÀ CÔNG NGHỆ
HỆ THỐNG THÔNG TIN KHOA HỌC VÀ CÔNG NGHỆ

Lọc theo danh mục
  • Năm xuất bản
    Xem thêm
  • Lĩnh vực
liên kết website
Lượt truy cập
 Lượt truy cập :  23,193,987
  • Công bố khoa học và công nghệ Việt Nam

Hoá lý

Trần Thị Ngọc Anh, Hồ Khắc Hiếu, Nguyễn Thị Diệu Thu, Nguyễn Thị Hồng Hạnh, Trịnh Ngô Minh Thăng, Phạm Nguyên Hải(1), Nguyễn Việt Tuyên, Trần Thị Hà

Nghiên cứu cấu trúc của màng ZnO: Ag chế tạo bằng phương pháp phún xạ r.f. magnetron

Tạp chí Khoa học và Công nghệ, Đại học Duy Tân

2021

47

32-36

1859-4905

Màng ZnO: Ag pha tạp, Phương pháp phún xạ, Nhiễu xạ tia X, Cấu trúc màng

Bài báo này trình bày một số kết quả nghiên cứu chế tạo màng mỏng trong suốt ZnO: Ag (0% - 4%) trên đế thủy tinh hoặc Si, bằng phương pháp phún xạ r.f. magnetron. Ảnh hưởng của 3 mức công suất phún xạ là 125W, 150W, 175W lên tính chất của màng mỏng chế tạo trong môi trường Ar ở áp suất cố định 1 Pa đã được khảo sát. Cấu trúc của màng mỏng được nghiên cứu bằng các phương pháp nhiễu xạ tia X và tán xạ Raman. Kết quả cho thấy màng thu được có độ kết tinh tốt, có thể ứng dụng trong lĩnh vực điện tử hoặc quang điện tử.

TTKHCNQG, CVv 416

Xem toàn văn
  • [1] L.N. Wang, L.Z. Hu, H.Q. Zhang, Y. Qiu, Y. Lang, G.Q. Liu, J.Y. Ji, J.X. Ma, Z.W. Zhao (2011), Studying the Raman spectra of Ag doped ZnO films grown by PLD,Mater. Sci. Semicond. Process. 14 (2011) 274–277. https://doi.org/10.1016/j.mssp.2011.05.004.
  • [2] B. Li, D. Yu, S. Zhang (1999), Raman spectral study of silicon nanowires, Phys. Rev. B - Condens. Matter Mater.,Phys. 59 (1999) 1645–1648. https://doi.org/10.1103/PhysRevB.59.1645.
  • [3] L.N. Dem’yanets, R.M. Zakalyukin, B.N. Mavrin (2011), Growth and Raman spectra of doped ZnO single crystals, Inorg.,Mater. 47 (2011) 649–653. https://doi.org/10.1134/s0020168511060070.
  • [4] H.Q. Bian, S.Y. Ma, Z.M. Zhang, J.M. Gao, H.B. Zhu (2014), Microstructure and Raman scattering of Agdoping ZnO films deposited on buffer layers,J. Cryst. Growth. 394 (2014) 132–136. https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2014.02.036.
  • [5] N.V. Tuyen, N.N. Long, T.T.Q. Hoa, N.X. Nghia, D.H. Chi, K. Higashimine, T. Mitani, T.D. Canh (2009), Indium-doped zinc oxide nanometre thick disks synthesised by a vapour-phase transport process,J. Exp. Nanosci. 4 (2009) 243–252. https://doi.org/10.1080/17458080802627482
  • [6] R. Sánchez Zeferino, M. Barboza Flores, U. Pal (2011), Photoluminescence and raman scattering in agdoped zno nanoparticles,J. Appl. Phys. 109 (2011). https://doi.org/10.1063/1.3530631.
  • [7] D.K. Maurya, A. Sardarinejad, K. Alameh (2014), Recent developments in R.F. magnetron sputtered thin films for pH sensing applications-an overview,Coatings. 4 (2014) 756–771. https://doi.org/10.3390/coatings4040756.
  • [8] A.P. Amalathas, M.M. Alkaisi (2016), Effects of film thickness and sputtering power on properties of ITO thin films deposited by RF magnetron sputtering without oxygen,J. Mater. Sci. Mater. Electron. 27 (2016) 11064–11071. https://doi.org/10.1007/s10854-016-5223-9.
  • [9] A.S. Hassanien, A.A. Akl (2020), Optical c-haracterizations and refractive index dispersion parameters of annealed TiO2 thin films synthesized by RFsputtering technique at different flow rates of the reactive oxygen gas, Phys. B Condens.,Matter. 576 (2020). https://doi.org/10.1016/j.physb.2019.411718.
  • [10] J. Singh, S.A. Khan, J. Shah, R.K. Kotnala, S. Mohapatra (2017), Nanostructured TiO 2 thin films prepared by RF magnetron sputtering for photocatalytic applications,,Appl. Surf. Sci. 422 (2017) 953–961. https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2017.06.068.
  • [11] A. Alhuthali, M.M. El-Nahass, A.A. Atta, M.M. Abd El-Raheem, K.M. Elsabawy, A.M. Hassanien (2015), Study of topological morphology and optical properties of SnO2 thin films deposited by RF sputtering technique,J. Lumin. 158 (2015) 165–171. https://doi.org/10.1016/j.jlumin.2014.09.044.
  • [12] M. Di Giulio, G. Micocci, A. Serra, A. Tepore, R. Rella, P. Siciliano (1995), SnO2 thin films for gas sensor prepared by r.f. reactive sputtering, Sensors Actuators B.,Chem. 25 (1995) 465–468. https://doi.org/10.1016/0925-4005(94)01397-7.
  • [13] T.T. Ngoc Anh, T. Thi Ha, N. Viet Tuyen, P. Nguyen Hai (2019), C-haracteristics of Ag Doped ZnO Thin Films Prepared by Sputtering Method,VNU J. Sci. Math. - Phys. 35 (2019) 87–92. https://doi.org/10.25073/2588-1124/vnumap.4365.
  • [14] J.H. Lim, C.K. Kong, K.K. Kim, I.K. Park, D.K. Hwang, S.J. Park (2006), UV electroluminescence emission f-rom ZnO light-emitting diodes grown by hightemperature radiofrequency sputtering, Adv.,Mater. 18 (2006) 2720–2724. https://doi.org/10.1002/adma.200502633.
  • [15] D.R. Sahu (2007), Studies on the properties of sputterdeposited Ag-doped ZnO films,Microelectronics J. 38 (2007) 1252–1256. https://doi.org/10.1016/j.mejo.2007.09.025