BỘ KHOA HỌC VÀ CÔNG NGHỆ
HỆ THỐNG THÔNG TIN KHOA HỌC VÀ CÔNG NGHỆ

Lọc theo danh mục
  • Năm xuất bản
    Xem thêm
  • Lĩnh vực
liên kết website
Lượt truy cập
 Lượt truy cập :  22,795,371
  • Công bố khoa học và công nghệ Việt Nam

Bùi Tuấn Anh(1)

Ảnh hưởng của nhiệt độ và thời gian sấy đến lớp vật liệu cản quang Su-8 sử dụng làm mặt nạ cứng trong kỹ thuật quan học khắc sâu

Khoa học và Công nghệ (Trường ĐH Công nghiệp HN)

2020

3

58-62

1859-3585

Vật liệu cản quang SU-8, Chiều dầy màng, Nhiệt độ sấy, Thời gian sấy

Biên dạng bề mặt của thiết bị hội tụ Fresnel trong quá trình chế tạo phụ thuộc vào nhiều yếu tố bao gồm độ dày, độ phẳng và độ rõ nét hoa văn của lớp cản quang (PR) được sử dụng làm mặt nạ cứng trong kỹ thuật quang khắc Si. Vật liệu cản quang SU-8 với độ nhớt cao, có khả năng tạo ra các lớp cản quang có độ dày lớn, có thể được sử dụng làm mặt nạ cứng trong quy trình chế tạo thiết bị hội tụ Fresnel. Tuy nhiên, để đạt được độ dày màng khoảng 10µm với yêu cầu bề mặt phẳng và không có bọt khí sau các giai đoạn sấy là rất khó khăn. Bài báo này trình bày ảnh hưởng của nhiệt độ và thời gian sấy lên chất lượng của màng vật liệu cản quang SU-8. Theo đó, để đạt được chất lượng cần thiết của lớp cản quang, giai đoạn sấy gồm hai bước đã được sử dụng. Thời gian và nhiệt độ cho sấy mềm tương ứng là 60 phút và 60°C, trong khi giai đoạn sấy sau phơi sáng phải được giữ ở 90°C trong khoảng một giờ. Kết quả thử nghiệm cho thấy các khuyết tật trên lớp vật liệu cản quang bao như các vết nứt, bọt khí đã được loại bỏ. Do đó, các thông số sấy này là phù hợp cho ứng dụng đã sử dụng màng cản quang dày làm mặt nạ cứng trong quy trình quang khắc sâu.

TTKHCNQG, CVt 70

Xem toàn văn
  • [1] W. H. Teh; U. Durig; U. Drechsler; C. G. Smith; H. J. Guntherodt (2005), Effect of low numerical-aperture femtosecond two-photon absorption on (SU-8) resist for ultrahigh-aspect-ratio microstereolithography.,J. Appl. Phys., vol. 97, pp. 054907.
  • [2] Tuan-Anh Bui; Min-Chun Pan (2017), Focusing efficiency evaluation of ultrasonic energy for fabricated Fresnel lens through surface profile estimation and FEA.,Ferroelectrics, vol. 506, pp. 76-92.
  • [3] Min-Chun Pan; Tuan-Anh Bui; Yu-Chuan Nien; Wen-Ching Shih, 2011. (2011), Design and Fabrication of Fresnel Lens and ZnO Thin-Film Transducer.,Japanese Journal of Applied Physics, vol. 50, pp. 07HD02.
  • [4] B. Hadimioglu; E. G. Rawson; R. Lujan; M. Lim; J. C. Zesch; B. T. KhuriYakub; C. F. Quate (1993), High-Efficiency Fresnel Acoustic Lenses.,1993 Ultraoniscs Symposium, pp. 579-582.
  • [5] C. F. Quate; E. G. Rawson; B. Hadimioglu, (1991), Muti-Discrete-Phase Fresnel Acoustic Lenses and Their Application to Acoustic Ink Printing.,(Patent, U. S., Ed.), US.
  • [6] B. Hadimioglu; S. Elrod; R. Sprague (2001), . Acoustic Ink Printing: an Application of Ultrasonics for Photographic Quality Printing at High Speed.,In Proc. 2001 IEEE Ultrason. Symp., pp 627-635, Atlanta, GA.
  • [7] B. Hadimioglu; E. G. Rawson; R. Lujan; M. Lim; J. C. Zesch; B. T. KhuriYakub, and C. F. Quate (1993), High-Efficiency Fresnel Acoustic Lenses.,In Proc. 1993 IEEE Ultrason. Symp., pp 579-582, Baltimore, MD.
  • [8] B. Hadimioglu, S. A. Elrod, D. L. Steinmetz, M. Lim; J. C. Zesch; B. T. Khuri-Yakub; E. G. Rawson; C. F. Quate (1992), Acoustic Ink Printing.,In Proc. 1992 IEEE Ultrason. Symp., pp 929-935, Orlando, FL.