Lọc theo danh mục
  • Năm xuất bản
    Xem thêm
  • Lĩnh vực
liên kết website
Lượt truy cập
 Lượt truy cập :  19,456,259
  • Công bố khoa học và công nghệ Việt Nam

45

Kỹ thuật điện và điện tử

Cao Thị Thanh, Phan Nguyễn Đức Dược, Nguyễn Thị Huyền, Phạm Văn Trình(2), Nguyễn Duy Long(1), Cao Tuấn Anh, Nguyễn Xuân Nghĩa, Trần Đại Lâm, Phan Ngọc Minh, Elena D. Obraztsova, Nguyễn Văn Chúc

Tổng hợp và đặc trưng tính chất điện, điện hóa của màng graphene pha tạp đồng clorua.

Fabrication and electrical, electrochemical c-haracteristics of copper chloride-doped graphene films

Khoa học & công nghệ Việt Nam

2023

03B

7 - 11

1859-4794

Trong nghiên cứu này, các màng mỏng vật liệu graphene (Gr) pha tạp đồng clorua (CuCl) đã được chế tạo trên đế đồng (Cu) bằng phương pháp lắng đọng hóa học pha hơi (CVD) ở nhiệt độ 1000oC trong môi trường hỗn hợp các khí (Ar, H2 và CH4) kết hợp với phương pháp ủ nhiệt ở 220oC để hóa hơi bột CuCl. Hình thái học bề mặt, cấu trúc và các đặc tính điện, điện hóa của các màng Gr pha tạp CuCl (CuCl-Gr) được khảo sát thông qua các phép đo như kính hiển vi điện tử quét phát xạ trường (FESEM), phổ tán xạ Raman, điện trở bốn mũi dò và kỹ thuật quét thế vòng. Kết quả nghiên cứu phổ Raman cho thấy có sự dịch vị trí các đỉnh phổ đặc trưng (D, G và 2D) về phía số sóng dài của màng CuCl-Gr so với Gr ban đầu. Kết quả đo điện trở bề mặt bằng phương pháp bốn mũi dò cho thấy màng CuCl-Gr có điện trở bề mặt khoảng 452 ohm/vuông (Ω/□), thấp hơn 2,02 lần so với Gr (913 Ω/□). Kết quả đo đặc trưng điện hóa (CV) trong dung dịch 3 mM Fe(CN)63-/4- trong 0,1 M PBS (dung dịch đệm phốt phát) cho thấy, đỉnh dòng đáp ứng của điện cực vàng (AuE) có phủ màng CuCl-Gr là 21,2 µA, cao hơn gấp 1,6 lần so với điện cực AuE có phủ màng Gr. Các kết quả nghiên cứu này cho thấy tiềm năng ứng dụng màng CuCl-Gr để phủ lên trên bề mặt các điện cực làm việc giúp tăng độ dẫn và độ nhạy của các cảm biến điện hóa.

In this study, the thin films of graphene (Gr) doped with copper (I) chloride (CuCl) were fabricated on a copper (Cu) substrate by chemical vapour deposition method at 1000oC in a mixture of gases (Ar, H2, and CH4) combined with annealing method at 220oC to vapourise CuCl powder. The morphology, structure, electrical, and electrochemical c-haracteristics of the CuCl-doped Gr films (CuCl-Gr) were investigated via field emission scanning electron microscopy (FESEM), Raman spectroscopy, four-probe method and cyclic voltammetry. The results of Raman spectroscopy showed that there is a shift of the c-haracteristic peaks (D, G and 2D) toward higher frequencies of the CuCl-Gr film compared to the pristine Gr film. The surface resistance measurement results exhibited that the CuCl-Gr film has a surface resistance of about 452 ohm/square (Ω/□), 2.02 times lower than that of the Gr film (913 Ω/□). The electrochemical c-haracteristic measurement results in 3 mM Fe(CN)63-/4- with 0.1 M PBS proved that the peak response current of the gold electrode (AuE) coated with CuCl-Gr film is 21.2 µA, 1.6 times higher than that of the AuE coated with Gr. These research results showed a great potential of using CuCl-Gr film to cover the surface of working electrodes in increasing the conductivity and sensitivity of electrochemical sensors.

TTKHCNQG, CVv 8